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甩胶喷雾热分解法制备ITO薄膜及光电性能研究

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按In:Sn（物质的量比）=9:1， InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为前驱物，采用自制甩胶喷雾热分解制备薄膜装置在普通玻璃衬底上沉积了ITO薄膜。以紫外-可见光分光光度计（UV-Vis）、RTS-4 四探针测试仪、X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）等手段对所得ITO薄膜的晶体结构、微观形貌和光电性能进行了分析。着重考察了衬底转速、喷雾速度、衬底温度、退火温度等对ITO薄膜光电性能的影响，优化条件下ITO薄膜结构形貌特点。结果表明，采用自制甩胶喷雾热分解制备薄膜新装置成功制备出ITO薄膜。该装置结构简单，操作方便。制备ITO薄膜优化条件为：甩胶转速800r/min、衬底温度 250℃、退火温度450℃，载气为空气，流量为7L/min，液体雾化速度0.2ml/min，雾粒速度3.5m/s。薄膜的沉积时间为5min，薄膜厚度约1000nm，最低电阻率为 0.75*10-4Ω.cm，薄膜在可见光范围（波长在400—700nm）内平均透光率为87.2%。衬底温度在200℃以上时呈现立方相结构。

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来源
《2010年第九届中国国际纳米科技（西安）研讨会》|2010年|1-10|共10页
会议地点西安
作者
佟帅; 武光明; 朱艳英; 张志乾; 颜炳嘉; 曹闯;
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作者单位

中国微米纳米技术学会;

纳米科技编辑部;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
甩胶喷雾热分解法; ITO薄膜; 光电性能;

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