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近红外光谱仪光源稳定性的控制研究

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对于近红外光谱仪器而言，光源的稳定性直接影响仪器的稳定性，光源光强在工作过程中会随着温度、电压等因素的变化而变化，进一步导致红外光谱仪的基线发生漂移，严重影响仪器采集数据的重复性和再现性。当光源的能量发生变化时，一般会导致仪器的背景基线发生两种形式的漂移：线性漂移和非线性漂移，从而导致多元校正模型失效。目前比较常用的解决方法主要有两种:一是采用“恒温+恒流”技术控制光源的稳定性；另一方案是在底层硬件添加反镇电路直接控制光源功率，采用光功率负反镇控制系统。传统的红外光谱仪光源稳定技术，都是试图从底层硬件角度来解决，这样尽管比较直接，但是其手段较为单一，通常是将一种反馈模式用硬件电路实现。同时.这种方式忽视了红外光谱仪是一个软硬件集成系统，其实光源的稳定任务可交由上位机来完成，其优势在于可以在上位机中实现更为复杂的自适应算法，进一步优化提升光源的稳定性。另外，也为算法的融合提供了可能性，可以将光源的稳定自适应算法与后期光谱数据的软件修正算法更好的结合在一起。

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来源
《全国第三届近红外光谱学术会议》|2010年|96-97|共2页
会议地点上海
作者
王帅; 冯新泸; 管亮;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

中国分析测试协会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类红外光谱分析法;
关键词
近红外光谱; 光源校准; 光源稳定性; 光谱仪器; 基线漂移;

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