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许津津; 梅俊平; 解新建; 郝秋艳; 刘彩池;
中国电子学会;
GaN; 离子注入; 快速热退火; 结构表征; 磁性;
机译:退火温度对离子注入制备的InFeP磁性的影响
机译:热退火对Mn离子注入AlInN / GaN薄膜结构和磁性的影响
机译:退火温度对Co_2Fesn Heusler合金结构和磁性的影响
机译:Ni和退火温度对MnNi-Fe2O4纳米粒子晶体结构和磁性的影响
机译:Co / X,Fe / Si和Fe /(FeSi)多层膜的结构和磁性。
机译:Cr +离子注入引起的InGaN纳米结构中的室温铁磁性
机译:光诱导对离子注入的薄膜磁性特性的影响 - 氢气氛中退火温度的谐振场依赖性。
机译:外延GaN薄膜的离子注入:损伤,掺杂和活化
机译:具有高退火温度的垂直磁性各向异性结构,用于磁性随机存取存储器
机译:GaN薄膜结构,其制造方法以及包括该GaN薄膜结构的半导体元件
机译:用于磁性随机存取存储器的高退火温度垂直磁各向异性结构
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