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新型聚合物刷应用于colloidal lithograph表面patterning

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本文成功研发了一种colloidal lithography表面patterning的方法，将分布于空气-水界面上的单分子层六边形颗粒pattern成功转移至硅晶片。直径100-750 nm的二氧化硅颗粒先在空气-水界面形成六边形非连续pattern(HNCP)，然后用一表面长有聚合物刷的硅晶片吸附转移。转移时在硅晶片表面上会不可避免的带有一层薄薄的水，在水干燥过程中会产生对pattern破坏性的毛细管力。聚合物刷与颗粒间形成粘附，从而克服上述毛细管力，保持颗粒的良好pattern。我们研究了几个影响pattern保持order的重要因素，如聚合物刷的厚度、聚合物刷的组成、颗粒间距和颗粒尺寸。

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来源
《天津大学2010年博士生论坛化工分论坛》|2010年|5-10|共6页
会议地点天津
作者
钱俊; Bhawalkar Satang P; 许深; 贾力;
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作者单位

天津大学研究生院;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类高分子材料;
关键词
空气-水界面; 单分子层六边形颗粒pattern; 硅晶片; 聚合物刷; 吸附转移;

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