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超声波原位插层制备硅树脂/蒙脱土纳米复合材料

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采用超声波技术,原位插层聚合法制备了甲基苯基硅树脂/有机蒙脱土(OMMT)纳米复合材料。利用X射线衍射(XRD),透射电镜(TEM)手段研究了复合材料内部结构以及超声波时间对蒙脱土分散性影响。结果表明,蒙脱土片层间距随着超声波时间增加而增加,当超声波时间＜20min时,有机蒙脱土片层以有序的插层型存在,形成插层型的聚合物/蒙脱土纳米复合材料(PLSN);超声波时间＞30min时,有机蒙脱土片层被剥离,无序地分散在硅树脂基体中,形成剥离型的聚合物/蒙脱土纳米复合材料。

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来源
《2009全国功能材料科技与产业高层论坛》|2009年|310-312|共3页
会议地点江苏镇江
作者
李小辉; 袁新华; 曹顺生; 胡杰; 盛维琛; 刘政;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类非金属复合材料;
关键词
有机蒙脱土; 硅树脂; 纳米复合材料; 超声波; 原位插层聚合;

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