首页> 中文会议>二〇〇八全国功能材料科技与产业高层论坛 >溅射温度对TaNx薄膜性能的影响

溅射温度对TaNx薄膜性能的影响

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

本文采用反应磁控溅射法制备TaNx薄膜,研究了溅射温度对薄膜成分、结构和性能的影响。结果表明,随溅射温度的升高,薄膜中氮含量先降低后升高,在560℃左右达到最低值26.71%(原子分数)。随溅射温度的升高,薄膜中依次析出TaN0.43.Ta4N5,Ta5N6,TaN相。随着溅射温度的升高,薄膜的温度电阻系数及方阻先下降后上升,并在560℃分别达到最低值708×10-6/℃,26.7Ω/sq。薄膜中氮含量越高,薄膜电阻温度系数及方阻越大，薄膜中存在Ta4N5和Ta5N6晶相可降低薄膜的温度电阻系数及方阻,而TaN晶相的存在导致较大的温度电阻系数及方阻。

著录项

来源
《二〇〇八全国功能材料科技与产业高层论坛》|2008年|244-246|共3页
会议地点天津
作者

展开▼
作者单位

中国仪器仪表学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜技术;
关键词
薄膜制备; 溅射温度; 薄膜晶相; 薄膜电阻;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜过程中热处理温度对薄膜性能的影响 [J] . 黄代勇 ,刘保顺 ,赵修建 . 陶瓷科学与艺术 . 2002,第003期
2. 磁控溅射氧化钛薄膜在不同溅射温度下的光电性能研究 [J] . 邱永龙 ,吴志明 ,居勇峰 . 电子器件 . 2010,第005期
3. 衬底温度对磁控溅射ZrN薄膜结构和物理性能的影响 [J] . 高洁 ,姚威振 ,杨少延 . 功能材料 . 2021,第009期
4. 氮氩流量比与基底温度对射频溅射TiN薄膜性能的影响 [J] . 李学瑞 ,曹振 ,于公奇 . 电镀与涂饰 . 2021,第023期
5. 退火温度对磁控溅射V2O5离子储存薄膜显微结构与电化学性能的影响 [J] . 付亚东 ,刘红英 ,张远洋 . 门窗 . 2020,第015期
6. 磁控溅射TaNx/Ag/TaNx低辐射复合膜的性能 [C] . Meng WU ,吴萌 ,Jiamu HUANG . 2011中国功能材料科技与产业高层论坛 . 2011
7. TaNx/Ag/TaNx低辐射薄膜的制备及性能研究 [A] . 郝晓培 . 2011

溅射温度对TaNx薄膜性能的影响

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅