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电弧离子镀与磁控溅射工艺制备TiAIN膜层的技术进展

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摘要

综合介绍了目前国内外利用磁控溅射和电弧离子镀这两种工艺制备TiAlN薄膜以及影响TiAlN薄膜制备的工艺因索。着重分析了铝在TiAlN膜层中作用及对膜层性能的影响。简要介绍了其它合金元素对膜层性能的影响并指出了TiAlN膜层技术的发展趋势。

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来源
《第十届21省(市、自治区)4市铸造学术会议》|2008年|55-60|共6页
会议地点南昌
作者

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作者单位

中国机械工程学会;

江西省铸造学会;

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会议组织
正文语种
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中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
电弧离子镀; 磁控溅射工艺; TiN薄膜; TiAlN薄膜; 膜层性能;

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