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电活性铁氰化铜/钴复合膜的制备及其电化学性能

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本文采用阴极电沉积法在铂基体上制备出电活性铁氰化铜/钴(CuCoHCF)复合膜。在0.1 mol·L-1 KNO3 溶液中采用循环伏安法并结合电化学石英晶体微天平(EQCM)技术考察了复合膜的电化学行为以及循环寿命，并在 0.1mol·L-1(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同混合浓度下复合薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+/K+的选择性。实验表明:铁氰化铜/钴复合膜是一种取代型杂化铁氰化物,非单一CuHCF和CoHCF 膜的简单组合,具有良好的离子交换行为及选择性,且循环寿命好于单膜,具备电化学控制离子分离(Electrochemically Controlled Ion Separation，ECIS)膜的初步特征。

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来源
《第五届全国化工年会》|2008年|1-5|共5页
会议地点西安
作者
李慧; 郝晓刚; 段东红; 张忠林; 马旭莉; 刘世斌;
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作者单位

中国化工学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
电化学控制离子分离; 铁氰化铜; 铁氰化钴; 复合膜; 阴极电沉积法; 电化学性能;

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