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高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究

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合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺(HDA)和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯(BPhMA)的共聚物p(HDA-BPhMA)s.当HDA含量较高时,共聚物可在气/液界面上形成稳定,排列紧密的单分子薄膜,并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上,形成多层均匀的Langmuir-Blodgett(LB)膜。这种LB膜被成功地应用于光刻,获得了分辨率为0.5 μm的LB膜图形.以该图形为抗蚀层,可将图形进一步转移至金属薄膜上,得到分辨率较高的金属图形,在图形转移的过程中,这种LB膜显示出较高的抗蚀性,有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。

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来源
《第六届中国功能材料及其应用学术会议》|2007年|281-284|共4页
会议地点武汉
作者
曾国良; 李铁生; 许文俭; 张素华; 王筠; 赵娜; 吴养洁;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

中国物理学会;

中国光学学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;光刻、掩膜;
关键词
纳米LB膜; 纳米抗蚀薄膜材料; 光刻性能; 共聚物; 刻蚀;

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