HPLC-ICP-MS联机分析中与化合物结构无关的校正现象及其应用

著录项

• 来源
  《2006年世界华人质谱学术报告会暨中国质谱学会第八届学术交流会》|2006年|44-45|共2页
• 会议地点 乌鲁木齐
• 作者

  陈登云; 仲娜; 荆淼; 王小如; 杨红霞; 刘葳; 李冰;

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• 作者单位

  中国物理学会;

  中国质谱学会;

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• 会议组织
• 正文语种
• 原文格式 PDF
• 中图分类 质谱分析;
• 关键词

  HPLC-ICP-MS联机; 化合物结构; 元素形态分析; 偏离CIC现象;