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超平整热蒸镀金膜的制备和形貌结构表征

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本文以原子级平整的云母和硅片作表面模板,用PVD热蒸镀的办法分别沉积上1.3 nm和5.0 nm的金膜.以云母和硅片为模板沉积的1.3 nm厚金膜的形貌有明显差异:前者表现为直径为～80 nm的卵石状结构,而后者呈现出直径为～50nm的较为均匀的团簇;两者均为非晶膜,其均方根粗糙度分别为0.12 nm和0.07nm.云母上沉积的5 nm厚金膜表现为紧密堆栈的团簇形貌,团簇直径为～20 nm;用谢乐方程估算的晶粒尺寸为～5 nm,与薄膜厚度相当.角分辨XPS全谱扫描结果表明所有样品的金膜覆盖率都较高,裸露区域最大线宽不大于10 nm。

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来源
《第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛》|2006年|546-549|共4页
会议地点兰州
作者
庞重军; 茂名学院; 中国科学院研究生院; 林义民; 中国科学院研究生院; 严洁;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜的生长、结构和外延;金属复层保护;
关键词
金膜; 制备工艺; PVD热蒸镀; 单晶模板; 气相沉积; 择优取向薄膜;

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