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汪沁; 张海鹏; 孙玲玲; 高明煜; 李文钧; 吕幼华; 刘国华; 汪杰;
中国电子学会;
集成电路; 静电保护; 器件结构; 工艺设计;
机译:利用微桥互连结构的SOI-MEMS / CMOS器件的多功能集成技术
机译:用LDD /侧壁氧化物隔离层结构模拟边缘电场对FD SOI nMOS器件阈值电压的影响
机译:FD-SOI技术中用于ESD保护的薄膜硅BIMOS器件的拓扑和设计研究
机译:第73章HV nLDMOS器件中的Bulk-FOX结构改进了抗ESD
机译:MOS器件和电路中的静电放电(ESD)的建模和仿真。
机译:单晶Ruddlesden-Popper相卤化物钙钛矿蓝色发光二极管的结构和光谱动力学
机译:用于高压ESD保护的GDNMOS和GDBIMOS器件在薄膜高级FD-SOI技术中
机译:63-meV,1-mrad(si)质子辐照后0.35-(μm)sOI CmOs器件和微功率前置放大器的噪声性能
机译:具有集成二极管的HV-SOI LDMOS器件可提高可靠性和雪崩坚固性
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