首页> 中文会议>2005年中国固体科学与新材料学术研讨会 >外控恒电流对电沉积CoPtW(P)薄膜磁性能的影响

外控恒电流对电沉积CoPtW(P)薄膜磁性能的影响

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

在外控恒电流模式下,采用电化学沉积法制备了CoPtW(P)合金薄膜,并重点研究了外控电流密度对CoPtW(P)合金膜磁性能的影响.研究表明,当其他工艺条件不变,电流密度在5～11mA·cm-2的范围内增加时薄膜的磁性能有所改善,薄膜样品的饱和磁化强度、垂直方向的矫顽力以及磁滞回线的方形度S随之增大.电流密度减小时不利于垂直磁晶各向异性.

著录项

来源
《2005年中国固体科学与新材料学术研讨会》|2005年|46-48|共3页
会议地点广西北海
作者
吴琼; 葛洪良; 卫国英; 崔玉建;
展开▼
作者单位

中国稀土学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
薄膜材料; 磁性能; 电化学沉积; 电流密度; CoPtW合金;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 铂钨含量对CoPtW永久磁性薄膜结构及磁性能的影响 [J] . 葛洪良 ,崔玉建 ,黄丽红 . 稀有金属 . 2003,第5期
2. 氮氩比对大功率脉冲磁控溅镀(AlCrNbSiTiV)N薄膜性能的影响 [J] . LIU Zhi-wei ,WU Ming-chang ,LIN Yu-xuan . 电镀与涂饰 . 2019,第012期
3. 衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响 [J] . 彭柳军 ,杨雯 ,陈小波 . 人工晶体学报 . 2015,第1期
4. 沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 [J] . 张文杰 ,朱圣龙 ,李瑛 . 功能材料 . 2008,第011期
5. 直流磁控反应溅射法制备工艺参数对TiO_2薄膜光催化性能的影响(英文) [J] . 赵琳 ,邱家稳 ,何延春 . 人工晶体学报 . 2008,第4期
6. 溶液PH值对电沉积CoPtW磁性薄膜的沉积行为及磁性能影响 [C] . 卫国英 ,吴琼 ,葛洪良 . 第十三次全国电化学会议 . 2005
7. PDMS基磁流变弹性体薄膜磁控光学性能及应用研究 [A] . 李辉 . 2016

外控恒电流对电沉积CoPtW(P)薄膜磁性能的影响

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅