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用于制作光纤光栅相位掩模的衍射特性分析

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本文利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究.研究发现,为了使零级衍射效率小于5％,且正负一级的衍射效率大于35％,相位掩模的刻槽深度必须控制在230～280nm,占宽比必须控制在0.48～0.65.同时与标量衍射理论的结果进行了分析对比.这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果.

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来源
《全国第十二次光纤通信暨第十三届集成光学学术会议》|2005年|699-703|共5页
会议地点广东四会
作者
刘全; 吴建宏; 陈刚; 方玲玲;
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作者单位

中国电子学会;

中国光学学会;

中国通信学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光纤传输线、光缆;光纤元件;
关键词
相位掩模; 光纤光栅制作; 衍射效率; 严格耦合波理论; 刻槽深度;

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