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C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的机理研究

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利用双离子束溅射和射频磁控溅射技术在Mo基底上分别制备了C膜和Hf膜,并利用化学方法制备了BaO涂层以模拟行波管栅极结构,随后在N<,2>保护下,通过在900~1300K范围内退火,研究样品处于高温工作环境下表面相结构和成分的变化,以此解决了C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的工作机理.

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来源
《2005年全国功能材料学术年会》|2005年|28-30|共3页
会议地点重庆
作者
吴雪梅; 诸葛兰剑; 柳襄怀;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

功能材料信息编辑部;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类行波管;特种结构材料;
关键词
栅极电子发射; 薄膜材料; 表面相结构; 双离子束溅射;

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