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高纯银中痕量杂质的电感耦合等离子体质谱测定方法研究

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以往银中杂质测定多采用化学法、发射光谱法、ICP-AES法,在测定高纯银中杂质时,往往还需要化学前处理过程,分析流程长且易沾污.银同位素的质量数较大,很适合ICP-MS测定.本项研究通过对干扰的考察、测定同位素的选择、参数的优化和内标法的考察、测定同位素的选择、参数的优化和内标法等项试验,建立高纯银中Li、Cr、Mn、Ni、Co、Cu、Sr、Mo、Cd、Bi等痕量杂质的ICP-MS直接测定方法.

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来源
《第八届有色金属化学与电化学分析、第六届有色金属色谱分析、第四届有色金属物理检测、首届有色金属质朴分析学术交流会、第九届轻金属分析学术会议》|2004年|293-297|共5页
会议地点海口
作者
刘湘生; 田雪峰; 张安定; 刘玉龙;
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作者单位

中国有色金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类质谱分析;
关键词
银; 痕量杂质; 电感耦合; 等离子体质; 质谱分析; 分析化学;

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