共掺氧对铒在硅中微观结构的影响

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• 来源
  《2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议》|2004年|196-201|共6页
• 会议地点 乌鲁木齐
• 作者

  任晓堂; 王忠义; 于金祥;

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• 作者单位

  中国电工技术学会;

  中国电子学会;

  中国电机工程学会;

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• 会议组织
• 正文语种
• 原文格式 PDF
• 中图分类 掺杂;
• 关键词

  离子注入; 背散射; 离子束沟道; 金属铒;