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顾书林; 叶建东; 朱顺明; 陈童; 秦锋; 赵伟强; 胡立群; 张荣; 施毅; 郑有炓;
中国电子学会;
光电性质; 氧化锌薄膜; 化学气相淀积; 薄膜制备;
机译:硅衬底上低压MOCVD生长的Al_xGa_(1-x)N的性质
机译:低压金属化学气相沉积(MOCVD)作为前体的低压金属化学气相沉积(MOCVD)生长氧化铒和氧化钆高k介电薄膜的对比研究
机译:通过低压MOCVD生长的III型氮化物半导体膜和器件结构。
机译:MOCVD生长的ALN薄膜中应力和光学性质的温度依赖性
机译:使用金属化学气相沉积(MOCVD)在低压下在低压下的Aln单层在蓝宝石上的生长
机译:Insb的低压mOCVD生长。
机译:使用低压MOCVD的外延膜生长方法
机译:使用低压MOCVD生长外延膜
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