cm<'-3>,相应的电子迁移率为221cm<'2>/Vs;GaN(0002)X射线衍射摇摆曲线半高宽(FWHM)为7arcmin;AlN/GaN周期结构极化感应二维电子气材料的室温电子迁移率为1086c'/> RF-MBE生长AlN/GaN周期结构二维电子气材料-胡国新王晓亮孙殿照刘宏新刘成海曾一平李晋闽林兰英-中文会议【掌桥科研】

RF-MBE生长AlN/GaN周期结构二维电子气材料

摘要

用射频等离子体辅助分子束外延技术(RF-MBE)在C面蓝宝石衬底上外延了高质量的GaN膜以及AlN/GaN周期结构极化感应二维电子气材料.所外延的GaN膜室温背景电子浓度为2.2×10<'18>cm<'-3>,相应的电子迁移率为221cm<'2>/Vs;GaN(0002)X射线衍射摇摆曲线半高宽(FWHM)为7arcmin;AlN/GaN周期结构极化感应二维电子气材料的室温电子迁移率为1086cm<'2>/Vs,相应的电子气面密度为8.0×10<'12>cm<'-2>.

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