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三氯氢硅合成的探讨

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本文阐述了SiHCl<3,>合成的原理,并从反应温度、原料中含氧和水份、硅粉料层高度及氯化氢流量、硅粉粒度等几个方面对SiHCl<,3>合成的影响进行了探讨.

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来源
《第八届全国铅锌冶金生产技术及产品应用学术年会》|2001年|307-309|共3页
会议地点广东韶关
作者
汤传斌;
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作者单位

中国有色金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.12;
关键词
三氯氢硅; 合成原理; 多晶硅;

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