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用H<,2>O<,2>-H<,2>SO<,4>合成低硫GIC的工艺研究

摘要

该文采用化学氧化法在浓硫酸与双氧水混合液中合成了H<,2>O<,2>-H<,2>SO<,4>-GIC,研究了插层工艺掺数如双氧水的浓度、双氧水与浓硫酸的配比以及水洗液的pH值、烘干温度、膨化温度等对膨胀容积和残余硫含量的影响,同时也对整个插层机理进行了探讨,得到了制造低硫膨胀石墨的合理工艺参数。

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