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自组装单分子膜为钝化层实现选择性原子层沉积氧化锌的研究

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报道了在SiO2基底上部分自组装一层致密的十八烷基三氯硅烷单分子膜(OTS-SAMs)作为钝化层实现选择性原子层沉积氧化锌.为了制备致密结构的十八烷基三氯硅烷单分子膜,研究了自组装条件对单分子膜致密性的影响.采用AFM、SE、WCA表征在环境温度25℃,无水甲苯为溶剂,浓度为10mM,浸泡时间为12h得到的OTS-SAMs较为致密.结果为OTS-SAMs接触角为110°,表面粗糙度(Rq)为0.1nm,覆盖率超过99％单分子膜.致密的十八烷基三氯硅烷单分子膜能很好的阻挡原子层沉积(ALD)氧化锌.

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来源
《2014全国（宁波）防锈润滑包装学术研讨会》|2014年|73-74|共2页
会议地点宁波
作者
Kong delin; 孔得霖; zhang long; 张龙; Wang ceming; 王册明; Sang lijun; 桑利军; Yang lizhen; 杨丽珍;
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作者单位

中国表面工程协会防锈专业委员会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.055;
关键词
半导体薄膜技术; 选择性原子层沉积; 氧化锌; 钝化层; 自组装单分子膜;

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