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相炳坤;
中国电子学会;
衬底;
机译:在硬质合金硬质合金上通过表面处理提高通过HFCVD沉积的多晶金刚石膜的成核密度和附着力
机译:沉积参数对直流电弧等离子体射流化学气相沉积法沉积金刚石膜微结构和导热性的影响
机译:衬底表面形貌对高密度等离子体化学气相沉积沉积纳米结构类金刚石碳膜的影响
机译:热丝化学气相沉积法在划痕的Si(100)衬底上生长的金刚石晶体的成核与生长机理研究
机译:用于大面积金刚石膜沉积的热丝CVD反应器中的多丝阵列和衬底支架的设计
机译:过渡金属掺杂对通过溶胶-凝胶法沉积在Si衬底上的TiO2膜的结构光学和磁性的影响
机译:通过在Co胶 ud上进行的表面处理来提高HFCVD沉积的多晶金刚石膜的成核密度和附着力碳化钨
机译:离子束诱导应变对化学气相沉积金刚石成核密度的影响
机译:连续膜沉积法的连续表面处理方法及使用常压等离子体的连续表面处理系统或连续膜沉积系统
机译:在黑色金属衬底上化学气相沉积金刚石膜-沉积碳化硅阻隔膜或连续变化的复合膜。协助种子形成并增加附着力
机译:用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
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