首页> 中文会议>中国工程院化工、冶金与材料工程第十一届学术会议 >铝合金上电镀厚镉及中国散粒中子源耦合层制造

铝合金上电镀厚镉及中国散粒中子源耦合层制造

摘要

散裂中子源利用荷能质子轰击重核后产生高通量中子.慢化器是调控中子的关键部件.此前国际上用铆钉铆接镉皮和铝合金部件,存在慢化剂泄漏的潜在风险,同时铆钉铆接处也给物理建模增加难度.常规电镀的镀层厚度是微米级,在活性的铝合金上施加一层厚达1mm的镉镀层难度很大.本文介绍了铝合金上电镀厚镉的无氰电镀方法、参数及其中国散粒中子源耦合层的制造.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号