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离子源辅助EB-PVD法制备高阻隔SiOx膜的研究

摘要

利用离子源辅助电子枪物理气相沉积方法(EB-PVD)制备高阻隔SiOx膜.研究了氩气流量、氧气流量以及电子枪功率等参数对SiOx膜水蒸气和氧气阻隔性能的影响.实验结果表明:增大氩气流量和电子枪功率可提高SiOx膜阻隔性能,但电子枪功率过大,SiOx膜的阻氧性能下降;低氧气流量时阻隔膜阻氧性能较好,高氧气流量时阻水性能较好.采用本文确定的最佳工艺条件,制备出透水率0.059/m2·day,透氧率为0.96ML/M2·day.atm的高阻隔SiOx膜.

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