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Effect of Thermal Annealing on the Performance of WO3-Ag-WO3Transparent Conductive Film

摘要

氧化物–金属–氧化物三层膜可用作透明电极,由于具有较低的成本和良好的性能引起了研究者的关注.然而,在被应用到器件之前,需要对其热稳定性进行研究.具体地,通过热蒸发的方法制备WO3–Ag–WO3(WAW)透明导电薄膜,并研究高温退火对其性能的影响.研究发现,当退火温度升至400时,WAW薄膜的方阻从6.55Ω/sp升至21.4Ω/sp.其透过率在较低温度(低于200℃)时会随着退火温度升高而缓慢升高,但超过200℃时会迅速降低.在100℃退火温度下得到品质因子最佳(11×10-7Ω-1)的薄膜.当退火温度超过300℃时,薄膜的透明度和导电性都会有明显地下降,可以认为是在高温条件下WO3本身的介电常数下降和Ag岛之间的互连减少导致的.当退火温度达到500℃时会严重破坏三层膜的结构.另外,500℃退火时会产生的Ag纳米颗粒具有局域表面等离子体效应会导致透过率谱在410nm处出现极小值.

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