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不同入射离子能级下四面体非晶碳微观结构与电子结构研究

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由基底偏压所决定的入射离子能量是过滤阴极真空弧(FCVA)系统沉积薄膜的关键因素之一.为了研究离子能量对于薄膜性质的影响,本文从实验和理论两个方面进行了探讨分析.首先由FCVA系统得到基底偏压为0~2000V的五组样品,并对其进行了EELS测试,由基底偏压与入射离子能量的转化公式,以及能量损失谱对于sp<'3>杂化成分和密度的计算,我们得到sp<'3>成分和密度随入射离子能量的变化.进一步分析表明,薄膜中sp<'2>杂化原子是呈微小的聚集状态分布在sp<'3>结构的骨架之中的.为更加精确的发现薄膜结构与沉积条件的信息,我们应用紧束缚分子动力学(TBMD)对这一体系进行了理论模拟,给出了四配位非晶碳膜的sp<'3>成分及密度相对入射离子能量的变化规律,与实验取得了很好的吻合.

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来源
《2004年中国材料研讨会》|2004年|1021-1023|共3页
会议地点北京
作者
郑冰; 郑伟涛; 朱嘉琦;
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作者单位

中国材料研究学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
类金刚石薄膜; 四面体非晶碳; 电子能量损失; 分子动力学; 微观结构;

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