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Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1微氧化膜形成的影响

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电解液组成对微氧化陶瓷膜的形成具有重要作用。在Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇复合电解液体系下,对ZAlSi12Cu2Mg1合金微氧化陶瓷膜的形成进行研究,通过改变Na2SiO3的含量,研究了其对微氧化的临界起电压、稳定氧化时间、陶瓷膜层厚度、膜层生长速率和陶瓷膜层相组成的影响。结果表明：Na2SiO3含量从6g/L到12g/L变化时,膜层厚度从154μm逐渐增加到174μm；稳定氧化时间由27min缩短为18min；膜层生长速率约从5.70μm/min提高到9.67μm/min；但Na2SiO3含量超过12g/L时,膜层厚度却不再增加了；当Na2SiO3含量为14g/L时,膜层厚度为166μm；当Na2SiO3含量为8g/L时,临界起正向电压达385V,负向电压达最低值为27V.XRD分析表明：陶瓷膜层中含有莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相,陶瓷膜层的莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相含量随电解液Na2SiO3含量变化而变化。

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来源
《第六届中国功能材料及其应用学术会议》|2007年|3756-3758|共3页
会议地点武汉
作者
刘彩文; 刘向东; 刘永珍; 韩春霞; 王晓军; 张雅萍;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

中国物理学会;

中国光学学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类电镀工业;
关键词
亚硫酸钠; 微氧化陶瓷膜; 稳定氧化时间; 陶瓷膜层;

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