首页> 中文会议>第十届全国印制电路学术年会 >通过图形电镀均匀性建模改善夹膜的可行性研究

通过图形电镀均匀性建模改善夹膜的可行性研究

摘要

外层蚀刻经常出现因夹膜导致蚀刻短路的现象,本文独创性将干膜厚度、孔铜厚度、厚径比、深镀能力、间距、图形分布进行关联系分析及定量研究,并以此理论基础计算出不同图形设计要求时不产生电镀夹膜的条件,同时指明了控制电镀夹膜产生的方向.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号