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CHI Xiao; 迟霄; WU Tianyi; 吴天一; XIA Xingda; 夏兴达; FU Jujian; 符鞠建; HE Zeshang; 何泽尚;
中国物理学会;
中国光学光电子行业协会;
液晶显示屏; 钝化层温度; 氧化物; 电学特性; 可靠性能;
机译:通过NH_3 / N_2O等离子体钝化具有沟道层和栅氧化层的多晶硅TFT的可靠性
机译:铁氟龙/ SiO 2 sub>双层钝化技术可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性
机译:P-15:无氧化物钝化IGZO TFT的偏置应力可靠性
机译:使用溶液处理的光敏钝化层的氧化物TFT的高可靠性
机译:工程SiO2钝化铟镓锌氧化物TFTs以改善通道控制
机译:铁氟龙/ SiO2双层钝化层可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性
机译:使用金属有机气相沉积/原子层沉积混合系统原位制造的包含al2O3栅极氧化物和alN钝化层的Gaas金属氧化物半导体结构的电特性
机译:原子层沉积制备透明氧化物TFT
机译:形成多层栅氧化物层以防止由于厚度减小栅氧化物层而被杂质破坏的装置的特性和可靠性的方法
机译:薄膜晶体管面板,其钝化层与带滤色器的TFT重叠,并且在钝化层上形成黑矩阵,黑矩阵分隔滤色器
机译:面内开关模式液晶显示装置,其在钝化层上具有公共电极,该钝化层形成在TFT和数据电极上
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