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紫外光固化有机硅保护膜的制备及其在铁质文物中的应用研究

摘要

本文以WD-70(γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷)、TEOS(正硅酸乙酯)和MMA(甲基丙烯酸甲酯)为单体,采用溶胶凝胶法和紫外光固化法联用技术合成了一种新型有机硅保护膜.采用SEM、EDS、ATR-FTIR对保护膜的形貌和结构进行表征,进而考察光引发剂、单体组成、引发剂用量和不同光强对保护膜合成的影响,并通过醋酸点滴实验、电化学实验、附着力实验对该保护膜在铁质文物中的应用进行研究,结果表明该保护膜抗腐蚀性和耐候性良好.且紫外光固化的方法具有不受文物大小限制的优点,对铁质文物的保护研究具有重要的意义.

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