首页> 中文会议>2017年全国玻璃科学技术年会 >双面抛光材料去除量均匀性的研究及优化

双面抛光材料去除量均匀性的研究及优化

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

行星式双面抛光运动过程中的材料去除量均匀性对光学材料的表面加工质量有重要影响.通过分析工件双面抛光的运动过程,建立了工件上任一点相对于抛光盘的瞬时速度方程,提出一种基于计算机仿真的材料去除量均匀性定量表征方法,并优化了相关运动参数值.研究结果表明,当太阳轮半径与齿圈半径之比大于等于0.2,齿圈与太阳轮转速比m、抛光盘与太阳轮转速比n符合方程:n=2.6848m-0.3333时,抛光过程的材料去除量均匀性最好,获得的工件抛光面型最优.

著录项

来源
《2017年全国玻璃科学技术年会》|2017年|220-223232|共5页
会议地点秦皇岛
作者
LI Qing; 李庆; BO Tie-zhu; 薄铁柱; ZHOU Dong-zhan; 周东站; LIU Chang; 刘畅; CAI Hua; 蔡华;
展开▼
作者单位

中国硅酸盐学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类抛光;
关键词
行星式双面抛光; 工艺优化; 材料去除量均匀性;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 微通道板双面抛光过程材料去除特性研究 [J] . 张洋 ,黄永刚 ,刘辉 . 红外技术 . 2014,第004期
2. 硬脆晶体基片化学机械抛光材料去除非均匀性形成机制研究 [J] . 杜家熙 ,苏建修 ,王占合 . 人工晶体学报 . 2012,第4期
3. 硅片化学机械抛光表面材料去除非均匀性实验 [J] . 苏建修 ,陈锡渠 ,杜家熙 . 超硬材料工程 . 2010,第005期
4. 行星式双面抛光均匀性研究 [J] . 胡晓珍 ,李伟 ,王志伟 . 机械工程师 . 2008,第003期
5. 固结磨料抛光去除均匀性的仿真与实验研究 [J] . 康静 ,左敦稳 ,孙玉利 . 中国机械工程 . 2011,第007期
6. 磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响 [C] . 李兆泽 ,李圣怡 ,戴一帆 . 第六届中日超精密加工技术双边国际学术交流会 . 2008
7. 双面抛光均匀性影响因素仿真研究 [A] . 汤超荣 . 2016

双面抛光材料去除量均匀性的研究及优化

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅