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基于分析晶体成像投影偏移研究

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投影偏移将严重影响基于分析晶体成像系统的信息提取精度和图像质量.从基于分析晶体成像系统的原理出发,建立了光路模型,分析了产生投影偏移的主要原因,计算机模拟研究了投影偏移对折射角信息提取的影响.结果表明,投影偏移主要由分析晶体本征摇摆曲线宽度和折射角所产生.本征摇摆曲线宽度将导致相邻像素之间的射线随分析晶体的摇摆相互偏移,当样品未被射线完全覆盖时,边界像素的摇摆曲线将出现形变,虚像素将出现计数并形成畸形摇摆曲线.折射角引起的投影偏移将使摇摆曲线形状和高度发生改变,随折射角增大,出现像素错位,其影响折射角信息提取的正确性.本征摇摆曲线宽度和折射角共同产生投影偏移并影响折射角信息的提取.

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来源
《中国原子能科学研究院第32 届“五四”青年学术报告会》|2018年|351-359|共9页
会议地点北京
作者
ZHANG Cui; 张催; PAN Xiaodong; 潘小东; SHANG Hongjie; 商宏杰; LI Gongping; 李公平;
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作者单位

中国原子能科学研究院;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类应用;
关键词
分析晶体成像; 投影偏移; 摇摆曲线; 折射角;

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