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胡文斌; 林艳鹤; 张京; 袁敬文; 王亚玲; 卞永宁; 师萌; 杨晨;
中国化学会;
氟硼二吡咯光敏剂; 合成工艺; 荧光量子产率; 汞离子;
机译:新型Meso-BODIPY取代的邻苯二甲腈的合成,表征,晶体结构和光物理性质
机译:Meso-三(五氟苯基)-4-吡啶基卟啉的新型二氢卟酚衍生物:合成,光物理和光化学性质
机译:新型酞菁-BODIPY缀合物及其光物理和光化学性质
机译:取代的3H-吲哚修饰的β-环糊精Ⅰ的光物理性质研究。水的形态和作为化学传感器的识别机制
机译:在常压和高压下,在酒精和烷烃溶液中萘的光物理性质和光化学性质。
机译:芘 - Bodipy-取代的新型水溶性环二磷腈:合成表征和光物理性质
机译:在1,7位带有-F / -N-3 / NH2基团的NIR氮杂a-BODIPYs的合成,结构和光物理性质
机译:合成光谱和理论方法合理设计树枝状大分子的光物理和光化学性质。最终技术报告
机译:用于评价光物理性质的设备,用于评价光物理性质的光的方法,用于该方法的测量方法以及用于该方法的发光量的测量方法
机译:用于光化学和/或光物理修饰有机材料表面的方法包括使用导电探针
机译:Y衍生物具有汞离子选择性,并且使用相同的荧光化学修饰剂
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