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LIU Run; 刘润; ZHOU Ying; 周颖; LI Wei; 李伟; WANG Bin; 王彬; WU Jie; 吴杰; XUE Wenbin; 薛文斌;
中国机械工程学会热处理分会;
低碳钢; 硼碳共渗处理; 液相等离子体电解渗方法; 光发射谱; 电压参数;
机译:等离子体电解硼碳共渗处理Q235低碳钢的高温氧化
机译:q235低碳钢上等离子电解硼碳共渗的光谱研究
机译:等离子电解硼碳共渗处理后Q235低碳钢表面硬化层的表征
机译:等离子体氮碳共渗过程参数对复合层和扩散区的微观结构和相组成/残余应力的影响
机译:富含缩进和冲击过程中硼碳化物中硼碳中的非晶强度的空间分布
机译:直流等离子体电解氧化对锆的表面特性和耐蚀性的影响
机译:氮化和氮碳共渗过程中复合层的开发;现状和未来挑战:IFHTsE Global 21:二十一世纪的热处理和表面工程。第14部分
机译:第一部分:硼的一些分子加成化合物的相对稳定性Ⅱ:硼在碳 - 碳双键中的加成:硼氢化物对氟化乙烯的影响
机译:在大气压或低压炉中用于连续调节氮化或氮碳共渗过程中的气体气氛的探针
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