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苄叉烷烃酮类双光子敏化生酸体系在正性光刻胶中的应用

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本文合成了以三苯胺为电子给体的苄叉烷烃酮类双光子染料, 测定了染料的光化学和光物理性质,染料的双光子吸收截面均达到1000GM以上。将染料分别和常用紫外光生酸剂N-羟基邻苯二甲酰亚胺三氟甲烷磺酸酯(NIOTf)组成双光子敏化产酸体系,测定了各生酸体系经单光子吸收敏化产酸的量子产率。利用该敏化产酸体系制备了化学增幅型正性光刻胶,用衰减全反射红外谱研究了光刻胶膜中经双光子吸收敏化产酸的催化降解过程。将光刻胶应用于飞秒激光双光子微加工,评估了其加工性能。实验证明,利用以上生酸体系能够制备高敏感度的双光子化学增幅正性光刻胶。

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来源
《中国感光学会成立30周年庆祝大会暨2011年学术年会》|2011年|80-81|共2页
会议地点北京
作者
袁浩; 赵榆霞; 吴飞鹏;
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作者单位

中国感光学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TQ577.35;TQ571.2;
关键词
感光材料; 正性光刻胶; 化学增感; 双光子吸收;

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