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一种改进的亮温追踪模型

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粗糙面的被动辐射成像模拟工作是被动辐射成像模拟中不可或缺的一个环节,尤其是对不同粗糙度粗糙面的成像模拟更需要做进一步的研究.本文在现有亮温追踪模型的基础上,将粗糙面的漫反射加入考虑,建立了不同粗糙程度粗糙面的亮温追踪模型,得到了粗糙面的准确模拟成像.

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来源
《2015年第十届全国毫米波亚毫米波会议》|2015年|270-272|共3页
会议地点福建泉州
作者
YIN Chuan; 尹川; BO Ya-ming; 薄亚明;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类微波与超高频技术;
关键词
粗糙面; 被动辐射成像模拟; 亮温追踪模型; 漫反射;

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