PPPS-2013: Infrared gas phase studies and scaling parameters in PE-CVD processes at atmospheric pressure using high-current dielectric barrier discharges

机译：PPPS-2013：在大气压下使用大电流介电势垒放电的PE-CVD工艺中的红外气相研究和缩放参数

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Plasma-enhanced chemical vapour deposition (PE-CVD) of silica-like layers at atmospheric pressure onto large-area polymeric substrates has been shown to yield high-quality barrier layers. A key requirement is to achieve a diffusive discharge mode in industrially relevant air-like gas mixtures (N2/O2/Ar) without admixtures of Helium. An electronic stabilisation enables high discharge currents (several A) to be achieved.

机译：在大气压下，类二氧化硅层在大面积聚合物基板上的等离子体增强化学气相沉积（PE-CVD）已显示出可产生高质量的阻挡层。关键要求是在不与氦气混合的工业相关气态混合气体（N 2 / O 2 / Ar）中实现扩散排放模式。电子稳定功能可以实现高放电电流（几个A）。

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来源
《2013 Abstracts IEEE International Conference on Plasma Science》|2013年|1|共1页
会议地点 San Francisco CA(US)
作者
Welzel S.; Engeln R.; Starostin S.A.; de Vries H.;
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作者单位

Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlandsc;

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