Graduate School of Science, Hiroshima University, Kagamiyama 1-3, 739-8526 Higashi-Hiroshima, Japan;
机译:阻抗谱法研究PbWO_4基氧化物离子导体的局部氧化物离子间隙
机译:APS-2017年春季AAPT德州分会,APS德州分会和物理学生学会第13区联席会议-事件-RbxCs1-xH2PO4(0 $ le $ x $ le $ 1)超质子导体系列的结构修饰:单晶X射线衍射和阻抗谱研究。
机译:RBXCS1-XH2PO4(0& = 1)质子导体系列的单晶X射线衍射和阻抗光谱研究
机译:LI〜+导体LI_3INBR_6的阻抗光谱和结构调查
机译:RbxCs1-xPO 4(0≤x≤1)超质子导体系列的结构修饰:单晶X射线衍射和阻抗谱研究。
机译:ProTaper旋转锉系统临床寿命的电化学阻抗谱研究
机译:研究有机涂层的局部降解。电化学阻抗谱与局部电化学阻抗谱的比较
机译:使用扫描电化学阻抗谱技术来研究局部腐蚀。