【24h】

Synthesis of Imide Monomers for Application to Organic Photosensitive Interdielectric Layer

机译:酰亚胺单体的合成用于有机光敏介电层

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

A negative photoresist formulation was developed utilizing synthesized UV monomers containing imide linkage, photoinitiator, UV oligomer, and alkali developable polymer matrix. It was found that via-holes with good resolution, high transmittance and thermal resistance could be obtained by photolithographic process utilizing the negative-type photoresist formulations.
机译:利用包含酰亚胺键,光引发剂,UV低聚物和可碱显影的聚合物基体的合成UV单体开发了负性光刻胶配方。发现使用负型光刻胶配方的光刻工艺可以得到具有良好分辨率,高透射率和热阻的通孔。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号