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Modeling of laminar e-beam source for SCALPEL

机译：SCALPEL的层流电子束源建模

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Abstract: The SCALPEL e-beam lithography tool requires an extremely uniform e-beam to illuminate the Mask. To meet this requirement, the SCALPEL POL tool source cathode operates in the temperature limited mode. In this mode, all cathode irregularities are imaged at the Mask plane due to the high DOF of the gun immersion objective. We have studied the possibility of Mask illumination with a laminar e-beam having its virtual source located beyond the immersion objective DOF. In this case, using a positively biased Wehnelt, one can obtain a laminar e-beam that provides high emittance and low brightness illumination, while also yielding an efficient in- gun correction of beam properties. !5
机译：摘要：SCALPEL电子束光刻工具需要极其均匀的电子束来照亮蒙版。为了满足此要求，SCALPEL POL工具源阴极在温度限制模式下运行。在此模式下，由于喷枪浸没物镜的自由度高，所有阴极不规则都在掩模平面成像。我们研究了使用层状电子束进行遮罩照明的可能性，其虚拟光源位于浸没物镜自由度之外。在这种情况下，使用正偏压的Wehnelt可以得到一种层状电子束，该束能提供高发射率和低亮度照明，同时还能对光束特性进行有效的枪内校正。 ！5

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