Validation of lithography based on the controlled movement of light-emitting particles

机译：基于受控的发光粒子运动的光刻验证

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A novel particle-based lithography is proposed. In this approach a particle moving in a liquid in contact with a light-sensitive substrate creates traces on that substrate (for example on a photoresist or on a photographic film). The light-emitting particle causes photochemical/photoelectric changes in the light-sensitive substrate, creating a latent image. A group of these particles can be used to write many features on the same substrate in a parallel manner. We investigate the use of electrokinetic forces to move the particles over the light-sensitive substrate. We also report on the use of high-aspect-ratio carbon MEMS (C-MEMS) electrodes as 3D dielectrophoretic traps for the light-emitting particles and investigate the feasibility of using these carbon electrodes to manipulate the light-emitting particles to trace sub-micron patterns on a light-sensitive surface. We propose two types of particle-based lithography schemes and discuss applicable scaling laws. Feasibility experiments were carried out using microscale devices.

机译：提出了一种新颖的基于粒子的光刻技术。在这种方法中，在液体中移动的颗粒与光敏基材接触时，在该基材上（例如在光致抗蚀剂或照相胶片上）产生痕迹。发光粒子在感光基板中引起光化学/光电变化，从而产生潜像。可以使用一组这些粒子以并行方式在同一基板上书写许多特征。我们研究了利用电动势将颗粒移动到光敏基材上的方法。我们还报告了使用高纵横比碳MEMS（C-MEMS）电极作为发光粒子的3D介电泳陷阱，并研究了使用这些碳电极来操纵发光粒子以追踪亚原子的可行性。感光表面上的微米图案。我们提出了两种类型的基于粒子的光刻方案，并讨论了适用的缩放定律。使用微型设备进行了可行性实验。

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来源
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》|2004年|P.566-578|共13页
会议地点 Santa Clara CA(US)
作者
Benjamin Y. Park; Rabih Zaouk; Marc Madou;
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作者单位

Mechanical and Aerospace Engineering, University of California, Irvine 4200 Engineering Gateway Building, Irvine, CA 92697-3975;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类半导体技术;
关键词
lithography; nanolithography; particle; dielectrophoresis; electroosmosis; carbon; nanomanipulation; c-MEMS;

机译：光刻;纳米光刻;颗粒;介电泳;电渗;碳;纳米夹持; c-MEMS;

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