Advanced Micro Devices, Inc., One AMD Place, P.O. Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453;
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Cadence Design Systems, Inc., 2655 Seely Ave, San Jose, CA 95134;
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机译:基于自动光学模拟的光刻热点修复流程,用于路线后优化
机译:高性能光刻热点检测,具有连续改进的模式识别和机器学习功能
机译:基于拉普拉斯特征图和贝叶斯聚类的布局模式采样及其在热点检测和光学邻近校正中的应用
机译:DRCPLUS在路由器中:使用2D模式检测和校正自动消除光刻热点
机译:使用基于模式的集群对IC热点进行自动分类和检测。
机译:梯度图案化表面上无光刻的高χ嵌段共聚物分层结构路线
机译:反向光刻作为DFm工具:利用基于模型的辅助特征放置,快速光学邻近校正和光刻热点检测加速设计规则开发
机译:热点模式:建筑气味的形式定义和自动检测。