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首页> 外文会议>Electrochemical processing in ULSI and MEMS 4 >Pulsed Aqueous Elcctrodeposition of Sm-Co Permanent Magnets
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Pulsed Aqueous Elcctrodeposition of Sm-Co Permanent Magnets

机译：Sm-Co永磁体的脉冲水电沉积

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Pulse current electrodeposition of Sm-Co alloys from aqueous solutions has been studied at various peak current densities (PCD), solution temperatures, frequency (v), T_(on)and duty cycles (7). A deposit content of 20 at %Sm was obtained at 25℃, higher than at 60℃ in contrast to DC from bath of 1M Sm sulfamate, 0.05M Co sulfate, 0.15M glycine at pH6. This composition is sufficient to obtain the high performance permanent magnet intermetallics, Sm_2Co_(17) (10.5 at %) and SmCo_5 (16.7 at %), by appropriate heat treatment. Increased PCD, T_(on), y and decreased solution temperature or frequency increased Sm deposit content and decreased current efficiency (CE). Magnetic saturation (M_s) decreased linearly with increased Sm deposit content as DC and sputtered films. Increased Sm content resulted in significant decrease in Hc_⊥ but Hc_‖ varied little.
机译：研究了在各种峰值电流密度（PCD），溶液温度，频率（v），T_（on）和占空比（7）下从水溶液中Sm-Co合金的脉冲电流电沉积。在25℃下获得的沉积物含量为20 at at％Sm，高于60℃下的沉积物含量，与pH值为6的1M Sm氨基磺酸盐，0.05M Co硫酸盐和0.15M甘氨酸溶液的DC形成对比。通过适当的热处理，该组成足以获得高性能永磁体金属间化合物Sm_2Co_（17）（10.5 at％）和SmCo_5（16.7 at％）。 PCD，T_（on），y的增加以及溶液温度或频率的降低会增加Sm沉积物含量并降低电流效率（CE）。磁饱和度（M_s）随着Sm沉积物含量的增加（呈DC和溅射膜）而线性降低。 Sm含量增加导致Hc_⊥显着降低，但Hc__变化很小。

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