Oak Ridge National Laboratory, Metals and Ceramics Division, Oak Ridge, TN 37831-6093, USA;
Cr_3Si; Cr-silicides; microstructure; thermal stability; spherodization; directional solidification; lamellar; eutectics; high-temperature materials;
机译:α相体积分数的变化对层状TiAl合金热稳定性的影响
机译:硅添加对层状TiAl合金热稳定性的影响
机译:Ti-48Al全层状单晶加热过程中层状组织的稳定性
机译:层层硅化物的微观结构和热稳定性
机译:关于可变冷却和共掺杂氧化钇稳定的氧化锆在热障涂层中的热力学稳定性和微观结构。
机译:Cu / TixSiyN / AlSiN太阳能选择性吸收涂层的组织和热稳定性
机译:Ti64β层层钛结构转动过程中芯片形成的热和微观结构研究