【24h】

Pattern Density Effects of FA vs Slurry

机译:FA与浆料的图案密度效应

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摘要

The purpose of this work is to demonstrate methods of characterizing and comparing STI polishes using fixed-abrasive(FA) and slurry based technologies. Comparisons of macro(>500μm) structures to typical device structures are provided, detailing the contributions of structures to the final planarity obtained following stripping nitride. Emphasis is placed upon methods of characterization and how they can be applied to new polishing techniques.
机译:这项工作的目的是演示使用固定磨料(FA)和基于浆料的技术表征和比较STI抛光的方法。提供了宏(>500μm)结构与典型器件结构的比较,详细介绍了结构对剥离氮化物后获得的最终平面度的贡献。重点放在表征方法及其如何应用于新的抛光技术上。

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