机译:混合高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和不平衡磁控溅射工艺沉积的TiAlCN / VCN纳米多层涂层的性能-涂层期间HiPIMS的影响
机译:结合高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射(HIPIMS / UBM)技术沉积的CrAlYCN / CrCN纳米多层PVD涂层
机译:结合高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射(HIPIMS / UBM)技术沉积的新型TiAlCN / VCN纳米多层PVD涂层
机译:CRN PVD涂层,由Hipims沉积,双极双阴极磁控溅射和电子束工艺,用于降压模具应用
机译:HIPIMS / UBM技术沉积CRN / NBN涂层中的生长缺陷
机译:由双相磷酸钙靶沉积的射频磁控溅射涂层用于生物医学植入物应用
机译:射频磁控溅射沉积Cr / CrN和Cr / CrN / CrAlN多层涂层的摩擦学和电化学性能