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Evaluation of Atmospheric Plasma Surface Modification for Continuous Processing of Solar Cells

机译：大气等离子表面改性用于太阳能电池连续加工的评估

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The use of plasma surface modification technology in photovoltaic cell manufacturing has heretofore been used primarily in applications such as the deposition of amorphous hydro-genated silicon nitride (SiN) layers in a vacuum plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process to create anti-reflection and surface (and bulk) passivation on thin-film solar cells, or the use of vacuum plasma etching in barrel-type reactors to perform edge isolation in some remaining fabrication processes. As photovoltaic cell manufacturing processes evolve, and with the added pressures of increasing hazardous chemical waste disposal costs, there has been interest in atmospheric plasma systems as efficient dry etching, surface cleaning and adhesion promotion process tools. This paper examines these systems and details etching, cleaning and bonding trial data confirming system efficacies.
机译：迄今为止，等离子表面改性技术在光伏电池制造中的使用主要用于以下应用，例如，在真空等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺中沉积无定形氢化氮化硅（SiN）层以产生抗化学腐蚀作用。薄膜太阳能电池的反射和表面（和整体）钝化，或在桶形反应器中使用真空等离子体蚀刻在某些剩余的制造过程中执行边缘隔离。随着光伏电池制造工艺的发展，并伴随着增加危险化学废物处置成本的压力，人们对大气等离子体系统产生了兴趣，将其作为有效的干法蚀刻，表面清洁和增粘工艺工具。本文研究了这些系统，并详细介绍了蚀刻，清洁和粘合试验数据，以确认系统的有效性。

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