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【24h】

フェムト秒レーザー薄膜加工法による電子位相ホログラムの作製

机译：飞秒激光薄膜加工方法制备电子相全息图

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我々のグループでは電子顕微鏡用の位相ホログラムを作製するために、波長1040 nmのフェムト秒レーザーを用いて厚さ数十 nmの薄膜を加工する、新しいレーザー加工法の開発を行ってきた。Fig. 1は加工を行ったSiN薄膜の走査型電子顕微鏡像である。(a)から(c)はそれぞれ、二光束干渉加工によって作製されたVortex, Airy, Bessel電子ビームを発生するための位相ホログラムであり、(d)は電子の軌道角運動量空間でダブルスリットとして機能するよう設計された位相ホログラムである。作製したホログラムは透過型顕微鏡を用いて性能評価を行い、これまでに電子Vortexビームの発生を観測するなど、期待通りに位相ホログラムとして機能することを確認した。
机译：在我们的组中，为了产生电子显微镜的相全息图，已经开发了一种新的激光加工方法，以使用具有1040nm波长的飞秒激光来处理厚度为几十个nm的薄膜。图。图1是加工的SiN薄膜的扫描电子显微镜图像。 （a）至（c）是用于产生由双光磁通干扰处理产生的涡旋，通风和贝塞尔电子束的相全息图，（d）在电子的轨道角动量空间中起作用的双狭缝。它是全息图设计为使用透射显微镜评估制造的全息图，证实其用作预期的相位全息图，例如观察到到目前为止的电子涡流的产生。

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