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【24h】

ELECTROCHEMICAL REDUCTION OF COBALT TETRAFLUOROBORATE IN 1-BUTYL-3-METHYLIMIDAZOLIUM TETRAFLUOROBORATE IONIC LIQUID

机译：1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐离子液体中钴四氟硼酸盐的电化学还原

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Electrodeposition of cobalt from cobalt tetrafluoroborate (Co(BF_4)_2) was investigated using 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate (BMIMBF_4) ionic liquid. The experiments were conducted at 353 K. Chronoamperometry experiments confirm that the electrodeposition of cobalt on tungsten electrode proceeds via three-dimensional instantaneous nucleation with diffusion-controlled growth process. The average diffusion coefficient of Co(II) was found to be 7.5 × 10~(-8) cm~2s~(-1) at 353 K, which is in good agreement with the estimated value from cyclic voltammetry. The electrochemical deposit was characterized using SEM-EDS and XRD methods. The SEM image shows formation of a dense and compact deposit at - 0.75 V. The EDS and XRD analysis confirm that the obtained deposit is pure cobalt metal.
机译：使用1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐（BMIMBF_4）离子液体来研究来自钴四氟硼酸钴（CO（BF_4）_2）的电沉积。该实验在353K中进行。计时amperometry实验证实，钴在钨电极上的电沉积通过三维瞬时成核与扩散控制的生长过程进行。在353k的353 k下发现CO（II）的平均扩散系数为3.5×10〜（-8）cm〜2 S〜（-1），这与循环伏安法的估计值吻合良好。使用SEM-EDS和XRD方法表征电化学沉积物。 SEM图像显示在-0.75V的浓密沉积的形成。EDS和XRD分析证实所获得的沉积物是纯钴金属。

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